淺析超純水在光學領域的應用

更新時間：2019-11-12   點擊次數：2661次

 

·       在生產中，超純水主要用作純水清洗和純水配液，不同的工藝生產中純水的用途及對水質的要求也不同。清洗需用純水，如水中含有氯離子，電容器就會漏電。在電子管生產中，電子管陰極涂甫碳酸鹽，如其中混入雜質，就會影響電子的發射，進而影響電子管的放大性能及壽命。

 

·       因此其配液要使用純水，在顯象管和陰極射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會引起發光變色；含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃光跳躍；含奇有機物膠體、微粒、細菌等，就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力，并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。

 

·       在晶體管、集成電路生產中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。水中的堿金屬（K、Na等）會使絕緣膜耐壓不良，重金屬（Au、Ag、Cu等）會使PN結耐壓降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）會使N型半導體特性惡化，V族元素（P、As、Sb等）會使P型半導體特性惡化，水中細菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20-50%）會使P型硅片上的局部區域變化為N型硅而導致器件性能變壞水中的顆粒（包括細菌）如吸咐在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。